Plagát Culture to Technology Identity je plagát navrhnutý na vystavenie vo svetelných paneloch autobusových zastávok. V hornej časti je čínsky znak pre Anhui zarámovaný klasickými kontúrami architektúry Huizhou, ktoré pripomínajú regionálnu históriu a kultúru. Znak sa postupne premieňa na elektronický obvod, ktorý končí štyrmi čínskymi znakmi pre Hefei High Tech. Plagát má rozmery 60 x 90 centimetrov. Gradientné modré tóny sú vytlačené pretlačou priamych farieb a línie obvodu sú pokryté lokálnym UV lakom pre reliéfny efekt.
Názov projektu : Culture to Technology Identity, Meno dizajnérov : Lei Wang, Meno klienta : Hefei High Tech Digital Technology Co., LTD..
Tento výnimočný dizajn je víťazom platinovej ceny v súťaži v oblasti grafiky, ilustrácie a vizuálnej komunikácie. Určite by ste si mali pozrieť portfólio dizajnov držiteľov platinovej ceny, aby ste objavili mnoho ďalších nových, inovatívnych, originálnych a kreatívnych diel v oblasti grafického dizajnu, ilustrácie a vizuálnej komunikácie.
